英特尔让每一座新晶圆厂完全复制研发线，产量从第一天起就保持一致

半导体工艺有数百个相互作用的步骤，因此将工艺转移到新工厂时，如果边转移边“改进”，会造成延误：英特尔自己的文件记录了一个0.8微米的启动项目延误了三个月，并且大约一年后产量才赶上研发线。

对于0.5微米世代，英特尔开发了“完全复制！”策略：所有可能影响工艺或其运行的因素都要复制到最细微的细节——管道直径、电路板版本、软件，甚至预防性维护做法——除非复制在物理上不可能，或者改变能带来压倒性的竞争优势。

四级匹配（物理输入、工艺输出、模块结构、产品参数）、变更控制委员会、设备差异表、审计和联合规范等体系使这一理念得以贯彻。两座新的0.5微米工厂以与研发线相同的产量上线，创下纪录时间，且没有质量延误。